Oxidation 이란? Si 위에 Gate oxide 역할을 하는 SiO2을 증착하기 위한 공정으로 사용.Si 웨이퍼 위를 산화(Oxidation)시키면 SiO2을 증착시킬 수 있어, 손쉽고 값싼 공정으로 분류됨.공정 온도(열) 조절을 통해 diffusion을 제어하는 공정.산화막을 통해 누설 전류 방지, 소자 간 분리, 불순물 확산 방지의 역할을 하게 됨 방법에 따라서 Wet / Dry / Radical oxidation으로 분류됨.특성Wet OxidationDry OxidationRadical OxidationSource gas수소 + 산소산소 (+질소)수소 + 산소Temp.600도 이상Pressure상압 산화진공에서 산화Oxidation Rate (동일온도)FastNormalSlow막질나쁨우수 ..
